三菱核子级抛光树脂USMT100,核子级（核级）】主要用于普通半导体电子级抛光树脂，EDI后端超纯水终端抛光专用

一、水质纯度极致，稳定产出18.2MΩ·cm超纯水

1. 转型率稳定

出厂预再生为H⁺/OH⁻形态，阳树脂转型≥99%、阴树脂≥96%；钠型、氯型残留极低，开箱直接装填使用，无需现场酸碱再生。

2. 痕量杂质深度去除

高效捕捉微量硅、硼、重金属、阴阳离子，离子泄漏控制在ppt级别；对弱电解质去除能力显著优于普通抛光树脂。

3. 极低TOC溶出

经过深度脱单体提纯工艺，TOC溶出≤3~5ppb，不会向水体释放有机物，杜绝晶圆、精密工艺水质波动，保障产品良率。

二、物理性能稳定，高流速工况不分层

1. 均粒专利工艺

粒径分布极窄、均匀系数低，阴阳树脂精准配比；大流量运行不易分层、偏流，床层压降低，长期运行电阻率稳定。

2. 机械强度优异

抗渗透压冲击、耐磨不易破碎，细粉产生量极少，减少后置精密过滤器堵塞，降低耗材更换频率。

三、化学稳定性强，耐受严苛工况

1. 耐酸碱、抗氧化，pH适用区间0~14；部分原厂核级树脂具备抗γ射线辐射性能，可适配核电水处理场景。

2. 抗有机物污染，运行周期更长，延长树脂使用寿命。

四、品控严苛，批次可溯源

全套原厂COA质检报告，严格遵循核工业材料生产规范；重金属、可溶性杂质指标全面管控，适合高端半导体、实验室、核电、光学精密制造等项目。

五、对比区分（一句话卖点）

普通电子级抛光树脂：稳定跑18.2MΩ，但硼、硅、TOC控制上限较低；

核子级抛光树脂：在长期连续运行、进水水质波动工况下，持续稳定维持极限水质，弱离子、微量金属控制能力拉满，适合高端制程。

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