日本三菱离子交换树脂——半导体行业
日本三菱离子交换树脂—半导体工业
在半导体工业,洗净用之超纯水对制品品质及产率有很大影响,以下图表示各类相关制造工程之超纯水水质要求例。
1. 超纯水制造上之离子交换树脂
超纯水设备,除了凝集沉殿等前处理与离子交换树脂外,还包含RO膜、超过滤、UV杀菌设备等单元,依原水水质与处理水要求来组合。超纯水设备分为一次纯水系与二次纯水系,后者又称为sub-system.
2. 一次纯水系
有使用软化树脂RO或2B3T+MBP者,因离子交换树脂对有机物与膠体之吸附力不高,若只是要得高阻值纯水,则僅使用离子交换树脂即可,否则需再经过RO装置较适宜,但RO之浓缩排水较多。
离子交换树脂能去除水中电解质,比抵抗可以近似理论纯水,但其高分子材质,自身会溶出微量不纯物,因此需要高洗净度之精制树脂。又为了让树脂能於年度维修短短数日内快速水洗上线,可采用之阴树脂,要注意的是,RO装置前加入之杀菌剂NaClo在进入树脂前需要用NaHSO3除去,而且此系中使用重复再生型MB,需注意再生后之离子泄漏值。
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混床阳树脂:DIAION SK1BL
混床阴树脂:DIAION UBA100MB
抛光树脂:KAM115U
核子级抛光树脂:USMT100
核子级抛光树脂:SMT200L
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